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電子束刻蝕系統(tǒng)

電子束刻蝕系統(tǒng)

是在半導(dǎo)體工藝，按照掩模圖形或設(shè)計要求對半導(dǎo)體襯底表面或表面覆蓋薄膜進(jìn)行選擇性腐蝕或剝離的技術(shù)。不僅是半導(dǎo)體器件和集成電路的基本制造工藝，而且還應(yīng)用于薄膜電路、印刷電路和其他微細(xì)圖形的加工。刻蝕還可分為濕法刻蝕和干法刻蝕。由于曝光束不同，刻蝕技術(shù)可以分為光刻蝕、X射線刻蝕、電子束刻蝕和離子束刻蝕。
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