產品介紹：

X射線光電子能譜儀ESCALAB Xi+是研發(fā)出的一款基于ESCALAB 250Xi產品后，具有可擴展功能、多種分析技術集成化的測試手段。該產品通過的靈活性、完備的專業(yè)配置選項、直觀的軟件操作以及硬件配置，帶給用戶的是的的實驗結果和生產力。強大的Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng)提供系統(tǒng)控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理與系統(tǒng)運行報告等一站式服務。

分析性能

 ●表面元素定性、定量分析

 世界的能量分析器設計和雙晶微聚焦單色化X射線源結合，實現(xiàn)了的能量分辨率

 ●快速高分辨平行成像

化學成像: 空間分辨率優(yōu)于1um

回溯成譜: 回溯區(qū)域優(yōu)于6um

 ●無需背底修正探測器

 電子倍增器和電阻陽極探測器的雙探測器設計，可實現(xiàn)高性能的XPS采譜和高空間分辨的XPS成  像的需求。

 空間連續(xù)的電阻陽極探測器創(chuàng)新技術，使得XPI成像分辨率達1um，同時所得數(shù)據(jù)無探測器背底特 征，無需背底校正，直接得到微米尺度分辨的定量元素分布成像結果。

 ●微聚焦單色源

 分析尺寸在20μm～900μm之間連續(xù)可調

 的靈敏度和能量分辨率

 提供不少于20個靶材工作點，確保儀器終身使用過程中陽極靶無需更換

 ●自動化gao效離子剖析源

新型Ar離子團簇與傳統(tǒng)單粒子離子源相結合，用于各類材料的深度剖析研究

 ●高精確度角分辨XPS

軟件控制分析位置和角度，確保數(shù)據(jù)的精確性和重復性

全套的ARXPS數(shù)據(jù)處理工具，可對納米尺度的多層結構器件進行層厚計算

 ●一鍵式荷電補償

配有雙束電荷中和系統(tǒng)，可以根據(jù)實際樣品的需要獨立控制開啟。

適用于所有不導電樣品及粗糙表面的jing準荷電中和

 ●強大的Avantage分析軟件

全數(shù)字化儀器控制

系統(tǒng)軟件可視化操作

全套XPS標準數(shù)據(jù)圖庫以及化合物結構鑒定數(shù)據(jù)庫

自定義數(shù)據(jù)采集到報告生成模式

X射線光電子能譜儀操作簡便

 ●高度自動化

分析區(qū)域和角度分辨可選

自動化氣體調節(jié)和真空控制

 ●隨時校準

能量標尺和儀器功函數(shù)的校準

離子槍定位和離子束聚焦

 ●鼠標點擊式樣品導航

實時顯示分析位置

高照明強度、強度可調

設計靈活

 ●ISS、ARXPS與REELS為標準配置

 ●多功能進樣室為標準配置

 ●UPS和EDS/AES/SEM/SAM/可選

 ●可選的樣品預處理附件，包括：

  1.樣品制備臺、晶體清潔器、樣品刮片器；

  2.樣品加熱/冷卻裝置；

  3.濺射清潔離子槍；

  4.蒸發(fā)器；

  5.高壓反應室