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光刻膠

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產品介紹:

MICROCHEM SU-8 負性化學放大膠
高深寬比,亞微米分辨率,側壁陡直
適合I-line,寬光譜,電子束,X射線曝光
熱穩(wěn)定性>300C
可用于基于酸性溶液的電鑄工藝

SU-8 2000 系列
厚度范圍,單層涂膠厚度為0.5 to > 200 μm
更多揮發(fā)性溶劑,與傳統(tǒng)去邊工藝兼容
降低了極性溶劑含量,減小表面張力
表面活性成分,改善涂覆效果
多用于 MEMS,微流以及光電子器件制作

SU-8 3000系列
SU-8 3000常用于性結構制作,較SU-8 2000具有更好的基底粘附力,更不易于在工藝過程中產生內應力積累。常用于光電器件,MEMS芯片制作,以及作為芯片絕緣、保護層使用。

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