等離子體發(fā)射測(cè)量

在紫外線…近紅外線范圍可同時(shí)觀察到等離子發(fā)射

低壓等離子沉積技術(shù)是一個(gè)客觀的連續(xù)不斷的過程，如PVD（物理氣象沉積）是今天真正的問題之一。除了等離子體發(fā)射光的表觀檢查，有時(shí)也使用質(zhì)譜技術(shù)。但是質(zhì)譜技術(shù)既不方便操作，其結(jié)果也不容易理解。與此相比，使用OES（發(fā)射光譜）和光纖耦合TranSpec光譜儀的有點(diǎn)是顯而易見的。

技術(shù)特征

在200…1000nm光譜范圍內(nèi)可同時(shí)測(cè)量

可檢測(cè)非常底的發(fā)射信號(hào)

可連接到幾乎每個(gè)真空室

無需維護(hù)

舒適和易于使用的PEMProVis專業(yè)版軟件

用于全球主要的汽車燈以及CD生產(chǎn)商進(jìn)行有機(jī)膜厚測(cè)試