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透射電鏡臭氧清洗設(shè)備ZONETEM II

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詳細(xì)介紹

日立紫外清洗設(shè)備是利用紫外光和臭氧對樣品表面污染物進行清理的前處理設(shè)備,主要針對樣品表面的有機污染物,相比等離子清洗更加溫和,對樣品損傷小。


清洗系統(tǒng):

2種清洗模式

真空清洗和真空儲存

清洗時間范圍為1min-30min(步幅1min)

真空系統(tǒng):

無油真空系統(tǒng)(干泵3.8L/min)

3min內(nèi)達到所需真空度

真空范圍為100-500torr(100步)


樣品桿:

3孔或5孔可選

適合于各型號透射電鏡樣品桿

有效清理區(qū)域直徑3mm


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