等離子清洗機(jī)FEMTO

等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能?？梢詰?yīng)用于多種領(lǐng)域。

l  硅蝕刻

l  PTFE蝕刻

l  去除光刻膠

l  提高耐溫塑料對于涂料和粘結(jié)劑的附著性

l  疏水層的沉積

l  親水層的沉積

l  保護(hù)或絕緣層的沉積

l  防擴(kuò)散層

主要技術(shù)參數(shù)：

1.    全自動控制

2.    *根據(jù)工藝要求不同，可設(shè)定功率、壓強(qiáng)、氣體流量，時間等參數(shù)

3.    單路工作氣體，氣體流量通MFC流量計控制

4.    反應(yīng)艙為不銹鋼，?100 mm*L278mm，容積約為2.2L

5.    射頻頻率13.56MHz,功率0~100W

6.    電極材質(zhì)為鋁/不銹鋼

7.    運(yùn)行模式為手動

8.    真空泵的排氣能力為4m3/Hour，配有強(qiáng)制進(jìn)氣閥

9.    *配有壓力傳感器，可根據(jù)工藝要求設(shè)定壓力值

10. 外尺寸：W310*D420*H330mm

11. 電源電壓：單相AC230V 16A