電感耦合等離子體系統(tǒng)可以產(chǎn)生高密度（1012~1013 cm-3）的電感耦合等離子體，可以施加頻率從0.5~13.56 MHz（低頻到中頻）的射頻電源，外加功率變化范圍是0~5000W。主要用于等離子體輔助化學(xué)氣相沉積（CVD）、薄膜制備與處理、表面改性、刻蝕與晶片清洗等。

電感耦合等離子體系統(tǒng)MPDEX21/21-2

主要由以下幾個部分組成

(1)平板式電感耦合等離子體源

結(jié)合電源發(fā)生器和射頻匹配網(wǎng)絡(luò)可以產(chǎn)生高密度（10¹²~10¹³cm^-3）的電感耦合等離子體，可以施加頻率從0.4~13.56 MHz（低頻到中頻）的射頻電源，外加功率變化范圍是0~5000W。主要用于等離子體輔助化學(xué)氣相沉積（CVD）、薄膜制備與處理、表面改性、刻蝕與晶片清洗等。

(2)射頻匹配網(wǎng)絡(luò)（RF Matching Network）

射頻網(wǎng)絡(luò)包括匹配（Matching)和調(diào)諧（Tuning)，其中匹配網(wǎng)絡(luò)的固定電容可提供的選擇從5到100納法（nF)等等，調(diào)諧網(wǎng)絡(luò)的電容可調(diào)節(jié)范圍是10~2010，1010~3100，2010~4010，3010~5010，4010~6010皮法（PF）等等。主要為磁控濺射、電容耦合等離子體（CCP）和電感耦合等離子體（ICP）提供匹配網(wǎng)絡(luò)，通過匹配網(wǎng)絡(luò)提供可調(diào)節(jié)的阻抗使磁控濺射、CCP和ICP能在不同的工藝條件下正常運行。

(3)Advanced Energy PDX 8000低頻電源，340-440 KHz, 8000W

主要為容性或者感性等離子體提供射頻電源。PDX系列大功率（5000和8000W)低頻電源為各種廣泛的工藝應(yīng)用提供一種高效、緊湊、易于整合的電源。這些高度可靠地電源提高了工藝靈活性，提供廣泛的運行頻率范圍以優(yōu)化工藝控制，確保較高的工藝重復(fù)性，并提高了吞吐量。

(4)Advanced Energy Dressler Cesar 2 MHz或13.56 MHz射頻發(fā)生器，600 W, 1000 W或2000 W

主要為磁控濺射，CCP和ICP提供射頻電源。強大而多功能的Cesar平臺可提供非常穩(wěn)定的射頻功率輸送性能，以及一個多樣化的模式選擇，每種模式都具有一套獨特的功能（2、4、13.56、27.12和40.68 MHz；0.3至5 kW；擁有多種用戶界面和輸入選擇），從而使您能夠選擇一套特別適合您應(yīng)用的組件而無需定制發(fā)生器所需的漫長交付期。

高質(zhì)量的組件和較少的零件數(shù)量使可靠性和產(chǎn)品生命周期均實現(xiàn)zuiyou化，從而使您的投資和制程生產(chǎn)力得到最大化的利用。一個全面而高度靈敏的操作菜單（可在該組件的多功能前面板上找到，并顯示在一個大的液晶顯示屏上）帶來了無與倫比的便利性提高了操作人員的效率，并使培訓(xùn)成本最小化。