產(chǎn)品簡(jiǎn)介

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是zuixin研制開(kāi)發(fā)的鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。

主要特點(diǎn)

1、配置三個(gè)靶槍，一個(gè)為配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，兩個(gè)為配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。（靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換）

2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。

3、體積小，操作簡(jiǎn)便。

4、整機(jī)模塊化設(shè)計(jì)，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì)，可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。

5、了根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源，可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍，也可多個(gè)電源單一控制靶槍。

技術(shù)參數(shù)

1、電源電壓：220V 50Hz

2、總功率：2.5KW

3、極限真空度：< ?E-6mbar（配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到?E-5mbar）

4、工作溫度：室溫-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度）

5、靶槍數(shù)量：3個(gè)

6、靶槍冷卻方式：水冷

7、靶材尺寸：Φ2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）

8、直流濺射功率：500W（可選）

9、射頻濺射功率：300W/500W（可選）

10、載樣臺(tái)：Φ140mm

11、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速：1-20rpm內(nèi)可調(diào)

12、保護(hù)氣體：Ar、N₂等惰性氣體

13、進(jìn)氣氣路：質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣，每個(gè)流量為100SCCM

產(chǎn)品規(guī)格

主機(jī)尺寸：500mm×560mm×660mm

整機(jī)尺寸：1300mm×660mm×1200mm

重量：160kg

標(biāo)準(zhǔn)配件

1、直流電源控制系統(tǒng)

2、射頻電源控制系統(tǒng)

3、膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng)

4、分子泵（德國(guó)進(jìn)口）

5、冷水機(jī)

6、冷卻水管（Φ6mm）

7、靶材（不銹鋼靶、陶瓷靶）

可選配件

金、銦、銀、白金等各種靶材