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離子束刻蝕系統(tǒng)

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離子束刻蝕系統(tǒng)


產(chǎn)品簡介

離子束刻蝕系統(tǒng)的基本原理是利用輝光放電原理將氬氣分解為氬離子,氬離子經(jīng)過陽極電場的加速對樣品表面進(jìn)行物理轟擊,以達(dá)到刻蝕的作用。把Ar氣充入離子源放電室并使其電離形成等離子體,然后由柵極將離子呈束狀引出并加速,具有一定能量的離子束進(jìn)入工作室,射向固體表面轟擊固體表面原子,使材料原子發(fā)生濺射,達(dá)到刻蝕目的,屬純物理刻蝕。


主要技術(shù)指標(biāo)

1.極限真空:9′10-5Pa

2.刻蝕均勻性與重復(fù)性:3英寸襯底均勻性優(yōu)于±5% ,重復(fù)性優(yōu)于±5%

3.刻蝕速率:200nm/min

4.基片尺寸:≤4英寸

5.刻蝕氣體::Ar


主要用途

主要用于金屬材料的刻蝕


公司主要研發(fā)、制造和銷售的檢測儀器有:電壓擊穿試驗(yàn)儀、高壓漏電起痕試驗(yàn)儀、耐電弧試驗(yàn)儀、鐵電材料測試儀器、介電常數(shù)及介質(zhì)損耗測試儀、表面及體積電阻率測試儀、壓電材料測試儀器、熱電材料測試儀器、絕緣材料電性能檢測設(shè)備、高溫管式爐\反射爐\氣氛爐、高溫電性能測試設(shè)備、Huace靜電檢測儀器、硅橡膠\絕緣子行業(yè)測試設(shè)備、PCB\三防漆電子材料測試、電氣薄膜電學(xué)檢測儀器、高低壓電氣材料測試設(shè)備、電線電纜行業(yè)電學(xué)測試設(shè)備、高分子材料電學(xué)測試儀器、熱分析儀器、電氣安規(guī)檢測儀器、半導(dǎo)體芯片類測試儀器等,可接定制儀器訂單。


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