BENEQ原子層沉積系統(tǒng)ALD  TFS 500

BENEQ ALD系統(tǒng)是專為生產(chǎn)MEMS設(shè)備（例如打印頭，傳感器和麥克風(fēng)）以及各種3D物品（例如機(jī)械零件，玻璃或金屬薄板，手表零件和珠寶，鏡片，光學(xué)器件以及醫(yī)療設(shè)備和植入物。

BENEQ ALD系統(tǒng)已成為大批量ALD制造中的新標(biāo)準(zhǔn)。通過將我們的專利熱墻設(shè)計(jì)與完全分開的入口集成在yi起，我們可以生產(chǎn)出具有優(yōu)異產(chǎn)量，低顆粒水平以及卓越的電學(xué)和光學(xué)性能的zui高質(zhì)量的ALD膜。靈活的設(shè)計(jì)以及易于快速的維護(hù)，確保了系統(tǒng)停機(jī)時間zui少，市場擁有成本zui低。我們專有的Picoflow?擴(kuò)散增強(qiáng)劑技術(shù)可通過經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的工藝，在超高深寬比的基材上實(shí)現(xiàn)高度保形的涂層。

BENEQ ALD系統(tǒng)是專門為MEMS和3維零件生產(chǎn)中的批處理而設(shè)計(jì)的，例如機(jī)械零件，鐘表零件和珠寶，鏡片，光學(xué)元件和醫(yī)療設(shè)備，外科植入物和植入物的涂層設(shè)備（PicoMEDICAL?解決方案）。該系統(tǒng)速度快，可靠性高且易于維護(hù)。