產(chǎn)品介紹：

微區(qū) XRF 是 SEM 中 EDS 分析的互補(bǔ)分析技術(shù)

• 掃描電子顯微鏡 （SEM）的微區(qū) X 射線熒光 （Micro-XRF） 技術(shù)是與傳統(tǒng)能量分散光譜 （EDS）能力補(bǔ)充的無(wú)損分析技術(shù)。這種分析技術(shù)對(duì)于未知樣品中元素成分的表征非常重要，而未知樣品的尺寸可以從厘米尺寸的不均勻樣品到微米尺寸的顆粒

• X射線激發(fā)源為微量元素的檢測(cè)帶來(lái)了更高的靈敏度（對(duì)于某些元素，檢出限可低至 10ppm）。同時(shí)，光譜范圍可以拓延（高達(dá)40 keV）以及探測(cè)深度可以更深

• 配備 X 射線管，結(jié)合微聚焦 X 射線光學(xué)器件，可產(chǎn)生 30 μm 的小束斑和高強(qiáng)度通量

• 模塊化基于壓電的樣品臺(tái)，專門設(shè)計(jì)用于安裝在現(xiàn)有SEM 樣品臺(tái)上，使大面積高速元素X射線面分析"飛一樣地"運(yùn)行， 速度高達(dá)4毫米/秒。這使得在 50 x 50 mm（或更大）的樣本面積上采集 X 射線面分布數(shù)據(jù)成為可能。同時(shí)，輕元素光譜數(shù)據(jù)以及微量元素和/或更高能量的 X 射線數(shù)據(jù)也納入快速且用戶友好的工作流中

• X射線激發(fā)的樣品深度更深，這讓多層系統(tǒng)的表征成為可能。1 nm 到 高達(dá)40μm 的薄膜樣品均可以分析，而這是用電子束源激發(fā)無(wú)法實(shí)現(xiàn)的