產(chǎn)品簡介

日立離子濺射儀 MC1000

日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術(shù)公司自行設(shè)計(jì)制造，針對(duì)掃描電鏡的精細(xì)高端需求而設(shè)計(jì)，適合微觀結(jié)構(gòu)較復(fù)雜的樣品，尤其適合于場發(fā)射掃描電鏡的高倍率觀測應(yīng)用。

主要特點(diǎn)：

1.      操作方便且有記憶功能，chuangLCD觸摸屏控制技術(shù)，可存儲(chǔ)五種處理方案；

2.      通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡，從而使鍍層更均勻；

3.      通過選配測量單元可實(shí)現(xiàn)1nm至30nm的鍍層厚度控制。

應(yīng)用領(lǐng)域：

離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛，通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象，并提高觀測效率，另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳，實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。