Park NX-Hivac通過(guò)為失效分析工程師提供高真空環(huán)境來(lái)提高測(cè)量敏感度以及原子力顯微鏡測(cè)量的可重復(fù)性。與一般環(huán)境或干燥N2條件相比，高真空測(cè)量具有準(zhǔn)確度好、可重復(fù)性好及針尖和樣本損傷低等優(yōu)點(diǎn)，因此用戶(hù)可測(cè)量各種故障分析應(yīng)用中許多信號(hào)響應(yīng)，例如掃描擴(kuò)散電阻顯微術(shù)(SSRM)的摻雜物濃度。Park NX-Hivac使得真空環(huán)境中高精確度和高分辨率測(cè)量的材料科學(xué)研究遠(yuǎn)離氧氣與其它藥劑的影響，在高真空條件下執(zhí)行掃描擴(kuò)散電阻顯微鏡測(cè)量可減少所需的針尖-樣本相互作用力，從而降低對(duì)樣本和針尖的損傷。

如此可延長(zhǎng)各針尖的使用壽命，使掃描更加低成本和便捷，并通過(guò)提高空間分辨率和信噪比得到更為精確的結(jié)果。

    基本技術(shù)參數(shù)

主要功能

用于失效分析應(yīng)用的高真空掃描

Park NX-Hivac允許故障分析工程師通過(guò)高真空SSRM提高的靈敏和分辨率。高真空掃描能提供比大氣或干燥的N2條件下更高的精度，更好的可重復(fù)性，還能減少針尖和樣品損傷 ，用戶(hù)從而可以在失效分析應(yīng)用中測(cè)量更廣闊范圍的涂料濃度和信號(hào)強(qiáng)度，

自動(dòng)化特征

用戶(hù)所需的輸入操作簡(jiǎn)單，用戶(hù)可以更快地掃描從而提高實(shí)驗(yàn)室的實(shí)驗(yàn)成果。

應(yīng)用

    在二維金屬材料電性能方面的研究

    C-AFM in Air vs High Vacuum MoS2

在空氣和真空下MoS2 的AFM 圖

    相關(guān)文獻(xiàn)

Jonathan Ludwig et al，”Effects of buried grain boundaries in multilayer MoS2”Journal：Nanotechnology, Volume 30, Number 28.