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低壓化學氣相沉積系統(tǒng)(LPCVD)

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低壓化學氣相沉積設(shè)備(LPCVD)

產(chǎn)地:韓國Ecopia;

有單管和雙管兩個不同的型號,用于科研或者小規(guī)模生產(chǎn)。

性能和特點:

- 溫度范圍:500 ~ 1000攝氏度;

- 氣體混合能力(帶有質(zhì)量流量計);

- 真空范圍:~ 10-6 Torr;

典型應用:

- 無應力氮化硅;

- LPCVD;

- 退火;

- 氧化;

- 其他...

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