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全自動顯微鏡 NX-HDM 全自動缺陷檢測原子力顯微鏡

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產(chǎn)品特點

對于工程師來說,識別介質(zhì)/平面基底的納米級缺陷的任務(wù)是一個非常耗時的過程,Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)可以自動缺陷識別,通過與各種光學(xué)儀器的聯(lián)用可以提高缺陷檢測效率。

詳細介紹

       對于工程師來說,識別介質(zhì)/平面基底的納米級缺陷的任務(wù)是一個非常耗時的過程,Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)可以自動缺陷識別,通過與各種光學(xué)儀器的聯(lián)用可以提高缺陷檢測效率,越來越多的行業(yè)需要超平的介質(zhì)和基板來滿足不斷縮小的設(shè)備需求,Park NX-HDM原子力顯微鏡系統(tǒng)具有業(yè)界低0.5埃噪音,并將與其真正的非接觸式模式相結(jié)合實現(xiàn)亞埃級表面粗糙度的測試。


    


    

基本技術(shù)參數(shù)

200 mm電動XY平臺

電動Z平臺

噪音

行程可達150mm x 150mm,

2 μm重現(xiàn)性 0.095nm分辨率

25 mm Z行程距離

0.1μm 分辨率 小于1μm 重現(xiàn)性

小于 0.5 μm/s

尺寸&重量

控制箱

設(shè)備需求環(huán)境

880(w)x 880(d)x 880(h)

620kg

600(w)x 900(d)x 1330(h)

170kg

室溫10 ℃~40 ℃

操作18 ℃~24 ℃

濕度 30%~60%


主要功能

1) 快速自動缺陷檢測功能

2) 亞埃級表面粗糙度的測量

3) 有小的熱漂移,自動分析測量的數(shù)據(jù)

4) 在線監(jiān)測測試過程,

    

應(yīng)用

自動檢測缺陷



相關(guān)文獻

Foucher; R Therese; Y. Lee; S.-I. Park; S-J. Proc. SPIE 8681,Metrology, Inspection, and Process Control for MicrolithographyXXVII, 868106 (April 18, 2013); doi:10.1117/12.2011463


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